国产最先进光刻机多少纳米

国产最先进光刻机多少纳米

分辨率90纳米

根据百度爱采购提供的信息，国产最先进的光刻机是上海微电子的SSX600系列光刻机。在该系列中，最先进的型号是SSA600/20，其分辨率为90纳米。分辨率是光刻机的重要指标之一，它表示了能够刻画芯片上最小特征的能力。而90纳米的分辨率表明该光刻机能够细致地制造出90纳米大小的芯片元件。

22纳米的制程

目前，国产光刻机最先进的制程为22纳米。虽然***在EUV光刻机方面已取得一定进展，但其量产和商业化进程仍较为缓慢。随着***技术的高速发展，相信***将很快能够生产出7纳米的光刻机。

目前几纳米

全球最先进的光刻机是荷兰ASML公司的EUV光刻机。关于EUV光刻机的具体纳米数目前尚无准确数据。

适用范围

国产90纳米光刻机并不是没有用途，只有7纳米工艺的芯片才算芯片。手机内部主板上的射频芯片、蓝牙芯片、功放芯片，以及路由器上的芯片和各种电器的驱动芯片等仍使用28-90纳米工艺的芯片。

DUV光刻机波长

国产光刻机属于DUV光刻机，其光源为准分子激光。根据技术不同，DUV光刻机的波长可以分为365纳米、248纳米、193纳米和等效134纳米。目前，国产90纳米DUV光刻机的波长应该是在193纳米。

ASML公司的最高工艺水平

查询官网可以得知，目前最先进的光刻机是ASML公司的600系列，其制作工艺可达到90纳米。相比之下，国产光刻机的工艺水平相对较低。

28纳米工艺水平

国产光刻机的最高工艺水平是28纳米。尽管这并不算高水平，但28纳米是一种成熟的工艺，具有低生产成本的优势。只要不追求极致性能的情况下，28纳米工艺仍然有广泛的应用前景。